國產光刻機面臨競爭壓力,歐洲芯片實驗室研發出新型EUV技術

2019-04-08

制造出國產芯片光刻機是14億中國老百姓的共同心愿,有了國產光刻機,我們就能造出國產芯片,不用擔心被ASML公司“卡脖子”。要實現光刻機國產化,就必須要投入很多資金、人力,現在國家也在重視支持國產光刻機發展。然而,世界發展,一日千里,我們在進步,別人也在進步。最近,歐洲芯片實驗室IMEC研發出新型EUV光刻機技術,這項先進技術對于發展5nm和3nm的光刻機有重要作用。

ASML公司是全球唯一能夠制造7nm制程的EUV光刻機,這臺機器的市場售價超過1.2億美金(約合人民幣7億),但是曝光后的光刻膠中的缺陷限制了目前7納米節點的產量,就是說,現在的技術條件下,ASML公司一年也只能生產十幾臺EUV光刻機。而IMEC公司研發的這種技術,可以幫助ASML公司解決現在的技術缺陷。這是一種基于最先進激光器的新型實驗室EUV光源技術,它能夠為開發人員提供更高的空間和時間分辨率,如果ASML公司下一步要發展5nm節點的光刻機,技術上的障礙就會少很多。

光刻機技術從DUV技術發展到EUV技術,這必然帶來很多方面的革新,光刻機需要高性能的光源,而激光器的技術水平非常關鍵,IMEC實驗室已經研發處理當前最先進的激光器,這種設備可以發出高次諧波光源,且無需蔡司鏡頭即可成像,IMEC實驗室這次探索意義在于為人們提供了一個新的參考——高次諧波光刻技術。

IMEC實驗室是歐洲半導體領域非常有創新活力的地方,實驗室設備比利時,去年,IMEC實驗室還向世人亮相了他們研發的3nm工藝的芯片晶圓。這對于國產光刻機而言,壓力確實很大,雖然科研水平差距很大,但并非沒有趕超的可能,如果我們也有很多IMEC這樣研發實驗室,中國半導體一定會笑傲全球。

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