解讀新聞:國產分辨力22nm超強光刻機落地 改進后可加工10nm芯片

2019-04-04

國產高端芯片來啦

改革開放40年來,隨著工業化快速推進,中國擁有了自主完備的工業體系和上中下游產業鏈,是全世界唯一擁有聯合國產業分類中全部工業門類的國家。此基礎上,中國制造業規模不斷擴大,成為名副其實的世界工廠和世界制造業第一大國。2018年11月29日,中國研發再次取得重大突破,又一制造行業走在了世界領先。

據新華社成都消息,國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”29日通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研制,光刻分辨力達到22納米,結合雙重曝光技術后,未來還可用于制造10納米級別的芯片。

據項目副總設計師胡松介紹,中科院光電所此次通過驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備,打破了傳統路線格局,形成一條全新的納米光學光刻技術路線,具有完全自主知識產權,為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義芯片等變革性領域的跨越式發展提供了制造工具。

結構復雜的光刻機

根據這條新聞給出的信息我們可以有以下解讀:

一、 新聞中強調國產超分辨光刻機能做到與其它國家生產的光刻機所使用的光刻路徑不同,說明國內項目組突破了生產光刻機所需要的高均勻性照明、超分辨光刻鏡頭、納米級分辨力檢焦及間隙測量和超精密、多自由度工件臺及控制等關鍵技術,還有結合超分辨光刻裝備項目開發的高深寬比刻蝕、多重圖形等配套工藝。

我國不僅僅有了獨特的光刻技術,還培養出一支超分辨光刻技術和裝備研發團隊。相信通過這一團隊的不斷推進,會讓我國的光刻技術實現彎道超車。

二、“結合雙重曝光技術后,未來還可用于制造10納米級別的芯片。” 今年,中芯國際斥資1.2億美元購買了一臺EUV極紫外光刻機,目的是未來可以生產7nm工藝芯片。與此同時,長江存儲同樣從荷蘭ASML(阿斯麥)購買了一臺機器,唯一不同是的是193nm沉浸式,能用于生產20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓,售價7200萬美元一臺。這些動輒幾千萬上億美元的數字說明了什么?這說明了國產光刻機未來市場前景十分廣闊!都是錢吶!

三、重要的是,我國研發的光刻技術,完全是走的新的技術路線,繞過了國外高分辨光刻裝備技術知識產權壁壘,實現科技創新,另辟蹊徑制造出世界上首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。從此,我國光刻技術不再受制于人。

中國芯片終會發亮

最后,祝賀我國自主研發的高端光刻機的成功,在此向中國全體科研者們致敬。希望我們的超分辨光刻機將助力“中國芯”跨越發展 。

這是中國進步路上的又一里程碑!厲害了,我的國!

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