給力,中國首臺10納米光刻機上線!

來源:快資訊 發布時間:2019-04-20 20:55

據快資訊11月29日消息稱, 由中科院,光電技術研究所主導研發的“超分辨光刻裝備項目”在四川成都通過了技術驗收,該光刻設備分辨力達到22納米,經過多重曝光技術,可實現10納米以下制程的芯片制造。消息傳出后, 有臺灣網友在臉書上表示:“臺灣是全球半導體制造的中心,臺積電的芯片制造技術要比大陸先進,臺灣如果要研發,是絕對有實力的!”

10納米光刻機研發

該光刻機裝備成本遠低于荷蘭的ASML,光電所的黑科技貢獻巨大!我們知道歐洲荷蘭的ASML公司,是世界上最先進的光刻機生產商。其最新研發的第五代光刻機,可用于實現20納米以下制程,比如14納米,10納米和7納米制程的芯片生產,在業界遙遙領先于同行。 它使用的是只有13.5納米波長的極紫外光(EUV)。由于使用了極高分辨力的紫外光,就需要更精密靈敏的裝備硬件,因此,裝備成本也會大大提 高。 而中國的這臺光刻機采用的365納米波長光源,單次曝光可以達到22納米,利用多重曝光技術即可實現10納米以下制程芯片的制造。
光刻機的超分辨光刻鏡頭由于它使用的波長更長,是普通的紫外線光,裝備的制造成本也相應降低。這意味著它會在全球市場上,具有更強的競爭力。我國的驗收專家認為,此次的研發項目打破了傳統光學光刻分辨力受限于光源波長限制的格局,從原理上突破分辨力衍射的極限,繞過了國外的高分辨光刻技術的知識產權壁壘,為我國在光刻機技術領域探索出了一條新道路。而作為光刻機最核心技術的提供者,中國光電技術研究所自然功不可沒!

臺網友稱:臺灣是全球先進的半導體制造中心,我們也能造出光刻機。大陸的光刻機裝備宣布獲得成功后,有臺灣網友在臉書上評論稱:“臺灣一直以來都是全球領先的半導體制造中心,而且 臺積電的芯片制造技術領先于大陸,臺灣對于芯片制造的了解更強于大陸。所以臺灣要決心制造光刻機,是絕對有技術實力的?!睙o可否認,臺灣是最先從事半導體制造行業的地區,大陸是后發追趕者。然而,經過短短十多年的發展,大陸已經在半導體芯片,屏幕,儲存等等領域呈現出反超臺灣的局面,臺灣人的自我封閉和夜郎自大,讓臺灣的半導體科技,嚴重落后于同時起步的日韓。
荷蘭ASML公司生產的光刻機臺灣能拿出臺面的科技企業只有臺積電,但臺積電所謂的芯片先進制程,只是依賴于荷蘭ASML公司光刻技術的進步。而大陸直接從光刻機裝備入手,不僅能解決芯片制造對外依賴的問題,還能在先進芯片制程技術上與荷蘭ASML公司一較高低。這是臺積電無法做到的。我國該光刻機項目的突破,讓光刻機裝備的白菜價成為可能,臺積電未來也只能采購大陸的光刻機(臺積電已有采購大陸制造的蝕刻機),它遲早會知道,一個企業如果沒有掌握核心的裝備技術,它的好景也不會太長。

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