國產光刻機對比荷蘭ASML

來源:快資訊 發布時間:2019-05-4 20:12

發展國產芯片是14億中國老百姓的夢想,在即將過去的2018年,回首國產芯片發展情況,我們欣喜地看到很多重要進步,在很多領域取得了技術突破,實現自主創新“中國芯”的夢想正在一步步地照進現實。比如,國產光刻機與荷蘭ASML之間的技術差距正在快速縮小,國產光刻機的發展速度令人點贊。

 

國產光刻機與荷蘭ASML公司的技術差距是怎樣的呢?打個比方,在10年前,國產光刻機的技術水平就像是學了一些基本算術的“低年級小學生”;而同時期的荷蘭ASML就像是一個學習優秀的“大一新生”、日本尼康公司則像一個老資格的“優秀本科畢業生”。

為什么這么說呢?要知道,我國對光刻機的研發起步是2002年成立了上微電子(SEEE),比人家晚了20多年。而那個時候,“大一新生”荷蘭ASML還在結伴臺積電,苦練EUV光刻機技術,而“優秀本科畢業生”尼康則是當前光刻機領域的霸主,在技術實力、市場份額和企業規模上都碾壓其他廠商,這就是十年前的全球光科技格局。

 

那么,現在那些廠商混得如何?昔日的“大一新生”荷蘭ASML通過刻苦研發EUV光刻機技術取代日本尼康成為“新霸主”,而且技術實力刷到了“研究生”,尼康已經沒有重返寶座的可能。而那個“低年級小學生”的國產光刻機廠商SMEE已經刷到了“大一新生”的水平。也就說,國產光刻機與荷蘭ASML廠商的差距就在于“本科層次”而已。

 

那么,國產廠商跟尼康公司呢?坦率地說,技術差別已經不太大,因為尼康這么多年一直在吃老本,而國產光刻機廠商直接把目光瞄準EUV光刻機領域,如果我們國產光刻機這個“大一新生”在下幾年的功夫,超越荷蘭ASML這個“研究生”也是有可能的,雖然中這個趕超的學習壓力非常大。


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