光刻機的主要性能指標了解一下

來源:成都興林真空設備公司 發布時間:2019-05-8 20:40

光刻機的主要性能指標有:
1、支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
2、分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。
3、光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
4、對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
5、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
6、曝光光源波長為紫外、深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等。


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