關于光刻機沉浸式和紫外的兩個疑問解答

來源:360問答 發布時間:2019-05-30 17:40

1、什么是沉浸式光刻機?
在傳統的光刻技術中,其鏡頭與光刻膠之間的介質是空氣,而所謂浸入式技術是將空氣介質換成液體。實際上,浸入式技術利用光通過液體介質后光源波長縮短來提高分辨率,其縮短的倍率即為液體介質的折射率。例如,在193nm光刻機中,在光源與硅片(光刻膠)之間加入水作為介質,而水的折射率約為1.4,則波長可縮短為193/1.4=132nm。
如果放的液體不是水,或者是其它液體,但折射率比1.4高時,那實際分辨率可以非常方便地再次提高,這也是浸入式光刻技術能很快普及的原因。

2、紫外光刻機是在什么條件操作?
隨著電子業的飛速發展,對作為電子元器件基礎的印制板的需求量及其加工精度的要求越來越高。紫外線光刻機是印制板制造工藝中的重要設備。傳統光刻機的玻璃-邁拉曬架在生產過程中需要人工趕氣,邁拉膜需要經常更換。由于冷卻系統過于臃腫,使得其生產成本高、效率低,已不能滿足PC B 生產的需要。在實驗基礎上設計了雙玻璃曬架光刻機,改進了其主要組成部分,包括曬架系統、光路系統、冷卻系統以及電氣和控制系統的整體設計。
在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠)進行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學性質發生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形。


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